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欧莱雅染发剂和施华蔻染发剂哪个好,欧莱雅染发剂和施华蔻染发剂哪个好 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月24日消息,国家知识产权(quán)局局长申长(zhǎng)雨(yǔ)在新闻发布会上表(biǎo)示,将统(tǒng)筹推进各类知识产(chǎn)权法律法规(guī)和(hé)制(zhì)度规则(zé)的制修订工作。其中,修改完善集成电路布图(tú)设计保护(hù)条例,适应大规模集成(chéng)电路(lù)发(fā)展需要(yào),助力芯片(piàn)产(chǎn)业(yè)做大做强(qiáng),服务(wù)数(shù)字经济更好(hǎo)发展。

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